光刻机品牌主要分为三类：美国（asml、kla、应用材料）、荷兰（asml）、日本（尼康、佳能、东京电子）。其中，asml在全球市场份额超过90%，占据主导地位。
光刻机品牌分类
光刻机是制造半导体芯片的关键设备，负责将芯片的电路图案转移到硅片上。以下是光刻机品牌的分类：
1. 美国
- ASML
- KLA
- 应用材料（Applied Materials）
2. 荷兰
- ASML
3. 日本
- 尼康（Nikon）
- 佳能（Canon）
- 东京电子（Tokyo Electron）
4. 中国
- 上海微电子装备（SMEE）
- 北方华创
- 中微半导体设备（AMEC）
5. 其他
- 德国蔡司（Carl Zeiss）
- 瑞士西门子（Siemens）
- 韩国三星
需要注意的是，ASML在全球光刻机市场占据主导地位，拥有超过90% 的市场份额。
